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脉冲激光沉积设备

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PLD450E球型脉冲激光沉积与磁控溅射复合镀膜系统

2017-03-06 点击量:

1. 激光转靶配有多块靶材,靶台可实现公自转,配有磁控靶多套
2. 样品架衬底可加热,可自转
3. 样品预处理室有退火炉,样品库有多个储存位置