FDJ650A型高真空多功能薄膜沉积设备

2017-02-15 点击量：

1. 采用离子束溅射和直流弧源复合镀膜技术，可用于开发单层或多层的金属膜、半导体膜，介质膜，硬质膜（如类金刚石薄膜）及各种复合功能膜
2. 磁过滤直流弧源2套，大颗粒过滤率85-90%，外形美观，成膜质量好
3. 设备安装有溅射离子源，高能气体离子源，射频离子源，作为辅助沉积与样品表面清洗
4. 样品台加热自转，可加偏压